2.0比上一代更加小型化，我们坚信未来的集成电路，锡烯材料必将取代硅材料，涌镇或许要改名为锡镇了。” 话音未落，全场再次沸腾了。 再次压下了沸腾的现场，叶华开始沉稳的介绍PHC2.0的各大技术亮点，以及国产集成电路工业的突破。 在发布会接下来的时间又公布了两个让全民为之沸腾的消息，一个是完全具备自主知识产权的国产5纳米级的EUV光刻机和等离子蚀刻机。 对于蚀刻机而言，大家内心无太大波动，因为这个领域国内的中微半导体一直走在世界一流的前列
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